BSO基板
説明
Bi12SiO20結晶 ケイ酸ビスマス結晶は、光電、光導電、光屈折、圧電、音響光学、眩しさ、ファラデー回転などの多機能情報材料を持っています。
利用可能な寸法: 30x30x2mm、10x10x2mm、5x5x2mm、3x3x2mmなど。
方向: (110)(100)(111)
プロパティ
| 結晶 | Bi12SiO20(BSO) |
| 対称 | キュービック、23 |
| 融点（℃） | 900 |
| 密度（g/cm3） | 9.2 |
| 硬度（モー） | 4.5 |
| 透明範囲 | 450～7500nm |
| 633nmにおける透過率 | 69% |
| 633 nmでの屈折率 | 2.54 |
| 誘電率 | 56 |
| 電気光学係数 | r41= 5 × 10-12m/V |
| 抵抗率 | 5×1011W-cm |
| 損失正接 | 0.0015 |
BSO 基質の定義
BSO基板は「酸化シリコン基板」の略です。これは、さまざまな科学的および技術的用途で薄膜を成長させるための基板として使用される特定の種類の材料を指します。
BSO基板は、絶縁材料である酸化ビスマスシリコンからなる結晶構造体です。高い誘電率や強力な圧電特性などのユニークな特性を持っています。これらの特性により、オプトエレクトロニクス、マイクロエレクトロニクス、センサーなどの用途に適しています。
BSO を基板として使用すると、薄膜の成長に適した表面が得られます。BSO 基板上に成長した薄膜は、堆積された特定の材料に応じて、強化された特性または機能を示すことができます。たとえば、BSO 基板上に成長させた強誘電体材料の薄膜は、強誘電体特性を向上させることができます。
全体として、BSO 基板は、薄膜の成長と特性の正確な制御を必要とするさまざまな分野の研究開発のための薄膜技術における重要な材料です。
結晶方位
結晶配向とは、結晶構造内の結晶格子の方向と配置を指します。結晶には、三次元格子を形成する原子または分子の繰り返しパターンがあります。結晶の方向は、その格子面と格子軸の特定の配置によって決まります。
結晶方位は、結晶の物理的および化学的特性を決定する上で重要な役割を果たします。電気伝導率、熱伝導率、機械的強度、光学的挙動などの特性に影響を与えます。結晶配向が異なると、結晶構造内の原子または分子の配置が変化するため、異なる特性を示すことがあります。
