LiAlO2基板

ＬｉＡｌＯ２基板とは、リチウムアルミニウム酸化物（ＬｉＡｌＯ２）からなる基板をいう。LiAlO2 は空間群 R3m に属する結晶性化合物であり、三角形の結晶構造を持っています。

LiAlO2 基板は、薄膜成長、エピタキシャル層、電子、光電子、フォトニック デバイスのヘテロ構造など、さまざまな用途に使用されています。優れた物理的および化学的特性により、ワイドバンドギャップ半導体デバイスの開発に特に適しています。

LiAlO2 基板の主な用途の 1 つは、高電子移動度トランジスタ (HEMT) や発光ダイオード (LED) などの窒化ガリウム (GaN) ベースのデバイスの分野です。LiAlO2 と GaN の間の格子不整合は比較的小さいため、GaN 薄膜のエピタキシャル成長に適した基板となっています。LiAlO2 基板は GaN 堆積用の高品質のテンプレートを提供し、デバイスの性能と信頼性が向上します。

LiAlO2 基板は、メモリデバイス用の強誘電体材料の成長、圧電デバイスの開発、固体電池の製造などの他の分野でも使用されます。高い熱伝導率、良好な機械的安定性、低い誘電率などのユニークな特性により、これらの用途に利点がもたらされます。

要約すると、LiAlO2 基板とは、リチウムアルミニウム酸化物からなる基板を指します。LiAlO2 基板は、さまざまな用途、特に GaN ベースのデバイスの成長、その他の電子、光電子、フォトニック デバイスの開発に使用されます。これらは、薄膜やヘテロ構造の堆積に適し、デバイスの性能を向上させる望ましい物理的および化学的特性を備えています。