LiF基板
説明
LiF2 光学結晶は、ウィンドウやレンズに優れた IR 性能を備えています。
プロパティ
| 密度（g/cm3） | 2.64 |
| 融点（℃） | 845 |
| 熱伝導率 | 314Kで11.3Wm-1K-1 |
| 熱膨張 | 37×10-6/℃ |
| 硬度（モー） | 113 600g 圧子付き (kg/mm2) |
| 比熱容量 | 1562 J/(kg.k) |
| 誘電率 | 100Hzで9.0 |
| ヤング率(E) | 64.79GPa |
| せん断弾性率(G) | 55.14GPa |
| 体積弾性率 (K) | 62.03GPa |
| 破壊弾性率 | 10.8MPa |
| 弾性係数 | C11=112;C12=45.6;C44=63.2 |
LiF基板の定義
LiF（フッ化リチウム）基板とは、光学、フォトニクス、マイクロエレクトロニクスの分野におけるさまざまな薄膜堆積プロセスの基礎または支持体として使用される材料を指します。LiF は、バンドギャップが広く、透明で絶縁性の高い結晶です。
LiF 基板は、紫外 (UV) 領域での優れた透明性と、熱や化学反応に対する高い耐性があるため、薄膜用途によく使用されます。これらは、光学コーティング、薄膜堆積、分光法、電子顕微鏡などの用途に特に適しています。
通常、LiF 基板は、UV 範囲での吸光度が低く、光学的に平滑であるため、正確かつ正確な測定または観察のために基板材料として選択されます。さらに、LiF は高温でも優れた安定性を示し、熱蒸着、スパッタリング、分子線エピタキシーなどの複数の堆積技術に耐えることができます。
LiF 基板の特性により、LiF 基板は UV 光学、リソグラフィー、および X 線結晶学の用途に特に適しています。環境要因に対する高い耐性と化学的安定性により、さまざまな研究や産業用途に多用途な材料となっています。
関連製品
LiF（フッ化リチウム）は、窓やレンズ用の光学材料として優れた赤外線（IR）特性で広く知られています。LiF2 光学結晶に関する重要なポイントをいくつか示します。
1. 赤外透明性：LiF2は赤外領域、特に中赤外、遠赤外の波長において優れた透明性を示します。約0.15μm～7μmの波長範囲の光を透過できるため、さまざまな赤外線用途に適しています。
2. 低吸収: LiF2 は赤外線スペクトルの吸収が低いため、材料を通過する赤外線の減衰が最小限に抑えられます。これにより高い透過率が確保され、赤外線の効率的な透過が保証されます。
3. 高屈折率: LiF2 は赤外波長範囲で高い屈折率を持っています。この特性により、赤外線の効率的な制御と操作が可能になり、赤外線の焦点を合わせたり曲げたりする必要があるレンズ設計にとって価値があります。
4. 広いバンドギャップ: LiF2 は約 12.6 eV の広いバンドギャップを持っています。これは、電子遷移を開始するには高エネルギーの入力が必要であることを意味します。この特性により、透明度が高く、紫外・赤外領域での吸収が少ないのが特徴です。
5. 熱安定性: LiF2 は優れた熱安定性を備えているため、性能を大幅に低下させることなく高温に耐えることができます。このため、熱画像システムや赤外線センサーなど、高温にさらされる用途に適しています。
6. 耐薬品性: LiF2 は、酸やアルカリを含む多くの化学薬品に対して耐性があります。これらの物質の存在下でも反応したり劣化したりすることがないため、LiF2 で作られた光学部品の長期耐久性と信頼性が保証されます。
7. 低複屈折: LiF2 は複屈折が低いため、光を異なる偏光状態に分割しません。この特性は、干渉法やその他の精密光学システムなど、偏光の独立性が必要なアプリケーションで重要です。
全体として、LiF2 は赤外線スペクトルにおける優れた性能で高く評価されており、さまざまな赤外線用途の窓やレンズにとって貴重な材料となっています。高い透明性、低い吸収、広いバンドギャップ、熱安定性、耐薬品性、および低い複屈折の組み合わせが、その優れた赤外線性能に貢献しています。
