MgO基板
説明
MgO単体基板は、高温超電導マイクロ波フィルタなどに必要な移動体通信機器の作製に使用できます。
当社では、製品の表面を高品質の原子レベルで準備できる化学機械研磨を使用しました。入手可能な最大サイズの 2 インチ x 2 インチ x 0.5 mm の基板です。
プロパティ
成長方法 | スペシャルアークメルティング |
結晶構造 | キュービック |
結晶格子定数 | a=4.216Å |
密度(g/cm3) | 3.58 |
融点(℃) | 2852 |
クリスタルの純度 | 99.95% |
誘電率 | 9.8 |
熱膨張 | 12.8ppm/℃ |
劈開面 | <100> |
光伝送 | >90%(200~400nm)、>98%(500~1000nm) |
クリスタルプリフェクション | 目に見える介在物や微小亀裂はなく、X 線ロッキングカーブが利用可能 |
Mgo 基質の定義
MgO は酸化マグネシウムの略で、薄膜堆積やエピタキシャル成長の分野で一般的に使用される単結晶基板です。立方晶の結晶構造を持ち、結晶品質が優れているため、高品質な薄膜の成長に最適です。
MgO 基板は、滑らかな表面、高い化学的安定性、および低い欠陥密度で知られています。これらの特性により、半導体デバイス、磁気記録媒体、光電子デバイスなどの用途に最適です。
薄膜堆積では、MgO 基板は金属、半導体、酸化物などのさまざまな材料を成長させるためのテンプレートとなります。MgO 基板の結晶配向は、目的のエピタキシャル膜に合わせて慎重に選択できるため、高度な結晶配向が確保され、格子不整合が最小限に抑えられます。
さらに、MgO 基板は、高度に規則正しい結晶構造を提供できるため、磁気記録媒体に使用されます。これにより、記録媒体内の磁区をより効率的に配置できるようになり、データ ストレージのパフォーマンスが向上します。
結論として、MgO 単一基板は、半導体、オプトエレクトロニクス、磁気記録媒体などのさまざまな用途で薄膜のエピタキシャル成長のテンプレートとして使用される高品質の結晶基板です。
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