DyScO3基質

DyScO3 (ジスプロシウム スカンデート) 基板は、薄膜成長およびエピタキシーの分野で一般的に使用される特定の種類の基板材料を指します。ジスプロシウム、スカンジウム、酸素イオンから構成される特定の結晶構造をもつ単結晶基板です。

DyScO3 基板には、さまざまな用途に適したいくつかの望ましい特性があります。これらには、高い融点、優れた熱安定性、多くの酸化物材料との格子不整合などが含まれ、高品質のエピタキシャル薄膜の成長を可能にします。

これらの基板は、強誘電体、強磁性体、または高温超伝導材料など、所望の特性を備えた複合酸化物薄膜を成長させるのに特に適しています。基板と膜の間の格子不整合により膜の歪みが生じ、これにより特定の特性が制御および強化されます。

DyScO3 基板は、パルスレーザー蒸着 (PLD) や分子線エピタキシー (MBE) などの技術によって薄膜を成長させるために、研究開発研究所や産業環境で一般的に使用されています。得られたフィルムはさらに処理して、エレクトロニクス、エネルギーハーベスティング、センサー、光デバイスなどのさまざまな用途に使用できます。

要約すると、DyScO3 基板は、ジスプロシウム、スカンジウム、酸素イオンから構成される単結晶基板です。これらは、望ましい特性を備えた高品質の薄膜を成長させるために使用され、エレクトロニクス、エネルギー、光学などのさまざまな分野で応用されています。