SiC基板
説明
炭化ケイ素 (SiC) は、IV-IV 族の二元化合物であり、周期表の IV 族の唯一の安定した固体化合物であり、重要な半導体です。SiC は優れた熱的、機械的、化学的、電気的特性を備えているため、高温、高周波、高出力の電子デバイスの製造に最適な材料の 1 つであり、基板材料としても使用できます。 GaNベースの青色発光ダイオード用。現在市場では4H-SiCが主流となっており、導電型は半絶縁型とN型に分かれます。
プロパティ
| アイテム | 2インチ 4H N型 | ||
| 直径 | 2インチ(50.8mm) | ||
| 厚さ | 350+/-25um | ||
| オリエンテーション | 軸外 4.0° <1120> 方向 ± 0.5° | ||
| プライマリフラット方向 | <1-100> ±5° | ||
| セカンダリフラット オリエンテーション | 一次平面から 90.0° CW ± 5.0°、Si フェイスアップ | ||
| 一次平坦長さ | 16±2.0 | ||
| 二次平坦長さ | 8±2.0 | ||
| 学年 | 量産グレード(P) | 研究グレード(R) | ダミーグレード(D) |
| 抵抗率 | 0.015~0.028Ω・cm | < 0.1Ω・cm | < 0.1Ω・cm |
| マイクロパイプ密度 | ≤ 1 マイクロパイプ/cm2 | ≤ 10マイクロパイプ/cm² | ≤ 30 マイクロパイプ/cm2 |
| 表面粗さ | Si 面 CMP Ra <0.5nm、C 面 Ra <1 nm | 該当なし、使用可能な領域 > 75% | |
| TTV | < 8 μm | < 10um | < 15 μm |
| 弓 | < ±8 μm | < ±10um | < ±15um |
| ワープ | < 15 μm | < 20 μm | < 25 μm |
| ひび割れ | なし | 累積長さ ≤ 3 mm | 累積長さ≤10mm、 |
| 傷 | スクラッチ 3 個以下、累積 | スクラッチ 5 個以下、累積 | ≤ 10 スクラッチ、累積 |
| 六角プレート | 最大6皿、 | 最大12プレート、 | 該当なし、使用可能な領域 > 75% |
| ポリタイプ領域 | なし | 累積面積 ≤ 5% | 累積面積 ≤ 10% |
| 汚染 | なし | ||
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